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真空气氛箱式炉
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真空气氛箱式炉

产品类型:真空气氛炉

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发布时间: 2024-03-12 12:06

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真空气氛箱式炉是一种高温处理设备,结合了真空环境和气氛控制功能。它通常用于烧结、退火、热处理等工艺,能够在控制的气氛条件下对材料进行加热处理。温度区间选择从400-1800℃,真空度不大于0.1Mpa.

主要特点包括:

  1. 箱式结构: 真空气氛箱式炉的外形类似一个箱子,内部空间用于放置待处理的材料样品。箱式结构设计使得它适用于加工较大量的样品。
  2. 真空环境: 真空气氛箱式炉能够在真空环境下进行加热处理。通过排除炉腔内的氧气和其他气体,可以防止材料氧化、脱气等反应,提高材料的纯度和质量。
  3. 气氛控制: 除了真空环境,真空气氛箱式炉还可以控制气氛环境,如氮气、氩气等惰性气体环境。这有助于控制材料的化学反应、脱气和纯度。
  4. 高温加热: 真空气氛箱式炉通常能够提供高温加热,可以达到空气下最高1800℃的温度。这使得它们适用于高温处理需要的材料,如金属、陶瓷、玻璃等。
  5. 精确控制: 真空气氛箱式炉通常配备高精度的温度控制系统,可以精确控制加热过程的温度、压力和气氛组成,以满足不同材料加热处理的需求。
  6. 真空度:真空气氛箱式炉由于其结构的特性,无法承载过于高的压力和真空度,其一般可满足0.1Mpa的正负气压。在炉膛真空的起初上,通入气氛,使烧结环境更加的纯净。
  7. 气路和流量:真空气氛箱式炉标配有2路标准进气,包含有浮球流量计和指针压力表。可在其基础上进行功能和产品扩充。
  8. 可扩展性:
    1. 控制方式定制:由传统的国产仪表PID控制,可定制进口仪表或PLC控制。多种选择可满足不同客户的使用习惯。
    2. 炉门开启方式:传统开启方式为侧开,可定制开门方向及开启方式,手动,半自动,自动化一应俱全。
    3. 多面加热:根据炉膛大小,熔科在尽可能保证炉温均匀性的同时,额外提供多面加热选择,可满足更高炉温均匀性的要求。
    4. 多点控温:根据不同的使用场景要求,可供客户选择多面加热,以提高热辐射效率和炉温的覆盖范围。
    5. 排气口和气路:可根据客户使用要求,增加排气口和气路以及流量计等,以满足客户对于工艺的要求。
    6. 触摸屏控制:熔科可根据市场上现有流行的工控触摸屏集合制作触摸屏控制系统,报表,数据,可实时观察下载。
  9. 标准规格

    规格炉膛尺寸(mm)电压功率发热元件
    ZQLB200×150×150220V4KWU型硅碳棒
    300×200×200380V8KWU型硅碳棒
    300×300×300380V12KWU型硅碳棒
    500×300×200380V15KWU型硅碳棒
    500×300×300380V18KWU型硅碳棒
    600×400×400380V24KWU型硅碳棒
    800×500×500380V35KWU型硅碳棒
    备注

    1. 功率数据以1200摄氏度为例,更高温度发热元件选择有所变化。

    2. 真空气氛会影响发热元件的发热效率,从而影响使用温度。

    3.功率电压等为参考值,具体以实际提供技术参数为准。

真空气氛箱式炉在材料科学、金属加工、陶瓷制备等领域具有广泛的应用,能够提供稳定、可控的加热环境,有助于实现材料的特定性能和结构的调控。需要额外注意的是,如果空气中的使用温度为1700℃的高温炉,在不同的气氛和真空度下,其使用温度会有变化。详情可咨询。